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[单选题]

在半导体芯片的生产中,要将直径8英寸的晶圆盘切割成3000粒小芯片,目前由于工艺水平的限制,小芯片仍有1%~2%的不良率。试生产了一段时间,生产初步达到了稳定,为了监控小芯片的不良率,在两个月内的每天固定抽检5个晶圆盘,测出不良小芯片的总数。要根据这些数据建立控制图,这时应选择下列何种控制图()。

A.np图或P图都可以,两者效果一样

B.np图或P图都可以,np图效果更好

C.np图或P图都可以,p图效果更好

D.以上都不对

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第1题
晶圆,英文Wafer,是制造半导体芯片的基本材料。()
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第2题
APE-3000RB/4000R型税控收款机的时钟芯片模块是_______

A.晶振和芯片是一体的,标识是M41T80

B.晶振和芯片是一体的,标识是M41T81

C.晶振和芯片是分离的,标识是M41T80

D.晶振和芯片是分离的,标识是M41T81

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第3题
半导体分立器件、集成电路对外壳的主要要求之一是:良好的热性能。外 壳应有小的(),使芯片的热量

半导体分立器件、集成电路对外壳的主要要求之一是:良好的热性能。外 壳应有小的(),使芯片的热量有效地散逸出去,保证器件在正常结温下工作。

A.热阻

B.阻抗

C.结构参数

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第4题
集成电路的主要制造流程是()

A.硅抛光片-晶圆-片-成品测试-集成电路

B.晶圆-硅抛光片-成品测试-芯片-集成电路

C.硅抛光片-芯片-晶圆-成品测试-集成电路

D.硅片=芯片=成品测试-晶圆-集成电路

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第5题
目前主板的芯片由()和()组成

A.北桥芯片

B.南桥芯片

C.东桥芯片

D.西桥芯片

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第6题
半导体芯片生产中,离子注入主要是用来()。
半导体芯片生产中,离子注入主要是用来()。

A.氧化

B.改变导电类型

C.涂层

D.改变材料性质

E.镀膜

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第7题
目前微机中的内存储器采用的是().

A.磁芯存储器

B.光存储器

C.量子存储器

D.半导体芯片存储器

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第8题
对于GaAs,SiC导电衬底,具有面电极的()LED芯片,采用()来固晶;对于蓝宝石绝缘衬底的()LED芯片,采用()来固定芯片。

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第9题
目前,银联卡的芯片可以和外标卡的芯片整合在一起。()
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第10题
对照芯片数据手册,稳压芯片LM7805与AMS1117-5对比,输入输出允许最小电压差情况()。

A.LM7805与AMS1117-5一致

B.LM7805比AMS1117-5大

C.LM7805比AMS1117-5小

D.两个芯片输入与输出不存在压差

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