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[单选题]
根据我国《集成电路布图设计保护条例》规定,布图设计无论是否登记,自创作完成之日起多少年后将不再受保护()。
A.10年
B.15年
C.20年
D.25年
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A.10年
B.15年
C.20年
D.25年
A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护
C.无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护
D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记
A.2018年6月10日
B.2019年2月1日
C.2019年8月12日
D.2019年9月12日
A.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申请行政复议
B.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局申诉
C.自收到通知之日起3个月内,向国家知识产权局请求复审
D.自收到通知之日起3个月内,向人民法院提起行政诉讼