题目内容
(请给出正确答案)
[主观题]
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。
制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。
A、半导体材料的霍尔常数比金属的大
B、半导体中电子迁移率比空穴高
C、半导体材料的电子迁移率比较大
D、N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件
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