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[单选题]

芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是()

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用 SPC

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(X一 MR)控制图即可

C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X 一八妞)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

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第1题
芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC()

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差控制图,三张控制图同时使用即可控制过程

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

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第2题
芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:()

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(I-MR)控制图即可

C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X-MR)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

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第3题
测量粘片胶厚度时,应测量芯片表面那几个点?()

A.芯片中心一个点

B.芯片对角线两个点

C.芯片四个角四个点

D.芯片任意位置一个点

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第4题
测量粘片胶厚度时,应在芯片表面测量哪几个点?()

A.芯片中心一个点

B.芯片对角线的两个点

C.芯片四个角的四个点

D.芯片任意位置取一点

E.芯片的铝垫上

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第5题
测量粘片胶厚度时,应在芯片表面测量()点。

A.芯片中心一个点

B.芯片对角线的两个点

C.芯片四个角的四个点

D.芯片任意位置取一点

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第6题
()的净化空调系统要求维持定内相对于环境为负压。

A.芯片厂的生产车间

B.液晶显示器生产车间

C.手术室

D.隔离病房

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第7题
815E的芯片是由()设计生产的,620的芯片是由()设计生产的。
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第8题
在芯片生产车间,每天抽8块芯片检查其瑕疵点个数。为了监测瑕疵点数,对于控制图的选用,下列正确的是: ()

A.使用C控制图最方便

B.也可以使用U控制图,效果和C控制图相同

C.也可以使用p控制图,效果和C控制图相同

D.使用np控制图,效果和C控制图相同

E.使用p或np控制图都可以

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第9题
在芯片生产车间,每天抽8块芯片检查其暇疵点个数。为了监测暇疵点数,对于控制图的选用,下列正确的是:()

A.使用C控制图最方便

B.也可以使用U控制图,效果和C控制图相同,但不如C控制图方便

C.也可以使用p控制图,效果和C控制图相同,但不如C控制图方便

D.使用np控制图,效果和C控制图相同

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第10题
以下哪个关于Nano精准控温芯片的说法正确的是?()

A.实时监测水温,精准控温

B.每小时为单位,监测水温

C.所有机型都带有Nano芯片

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第11题
已知并行扩展2片2K×8存储器芯片及芯片地址范围(无关地址位取“1”),芯片Ⅰ:B800H~BFFFH;芯片Ⅱ:E800H~EFFFH;试

已知并行扩展2片2K×8存储器芯片及芯片地址范围(无关地址位取“1”),芯片Ⅰ:B800H~BFFFH;芯片Ⅱ:E800H~EFFFH;试画出其连接电路。

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