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划片后晶圆清洗时离子风枪口与晶圆距离应保持在15±5cm。()

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12inch晶圆划片后清洗时间为50s±10s。()
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第3题
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第5题
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第6题
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第7题
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第9题
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第10题
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第11题
划片的任务是将已减薄的晶圆按照工艺规范要求切割成完整的单个芯片。()
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